Repositorio Institucional Ulima

Aplicaciones de la física de plasmas en la industria

Aplicaciones de la física de plasmas en la industria

Saettone-Olschewski, Erich-Arturo;
URI: http://repositorio.ulima.edu.pe/handle/ulima/2572
Fecha: 2010

Resumen:

Se presentan las características y propiedades del estado ionizado de la materia, conocido como “plasma”, así como la clasificación, ventajas y beneficios que esta tecnología proporciona en diversas aplicaciones industriales. También se describen los reactores más utilizados para estos procesos: los de evaporación iónica (sputtering) de tipo glow discharge y los de resonancia ciclotrónica electrónica (ECR).

Citación APA:

Saettone Olschewski, E. (2010). Aplicaciones de la física de plasmas en la industria. Ingeniería Industrial, (28), 195-210. Recuperado de http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223

Publica:

Universidad de Lima
Perú

Categoría / Subcategoría

Ingenierías / Ingeniería industrial
Ciencias / Física

Materias:

Física del plasma
Tecnología del plasma
Plasma physics
Plasma technology
Plasma CVD
Plasma PVD

ISSN:

1025-9929

Enlaces:

http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223

Revista:

Ingeniería Industrial

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