Repositorio Institucional Ulima

Aplicaciones de la física de plasmas en la industria

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dc.contributor.author Saettone-Olschewski, Erich-Arturo es
dc.contributor.other Saettone-Olschewski, Erich-Arturo
dc.date.accessioned 2016-12-13T15:30:56Z es
dc.date.available 2016-12-13T15:30:56Z es
dc.date.issued 2010 es
dc.identifier.citation Saettone Olschewski, E. (2010). Aplicaciones de la física de plasmas en la industria. Ingeniería Industrial, (28), 195-210. Recuperado de http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223 es_ES
dc.identifier.issn 1025-9929 es
dc.identifier.uri http://repositorio.ulima.edu.pe/handle/ulima/2572
dc.description.abstract Se presentan las características y propiedades del estado ionizado de la materia, conocido como “plasma”, así como la clasificación, ventajas y beneficios que esta tecnología proporciona en diversas aplicaciones industriales. También se describen los reactores más utilizados para estos procesos: los de evaporación iónica (sputtering) de tipo glow discharge y los de resonancia ciclotrónica electrónica (ECR). spa
dc.format application/pdf es
dc.language.iso spa es
dc.language.iso spa es
dc.publisher Universidad de Lima es_ES
dc.relation.uri http://revistas.ulima.edu.pe/index.php/Ingenieria_industrial/article/view/247/223 es
dc.rights info:eu-repo/semantics/openAccess es
dc.rights.uri http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/ es
dc.source Universidad de Lima es
dc.source Repositorio Institucional Ulima es
dc.subject Física del plasma es
dc.subject Tecnología del plasma
dc.subject Plasma physics
dc.subject Plasma technology
dc.subject Plasma CVD
dc.subject Plasma PVD
dc.subject.classification Ingenierías / Ingeniería industrial es
dc.subject.classification Ciencias / Física
dc.title Aplicaciones de la física de plasmas en la industria es
dc.type.other Artículo
dc.identifier.journal Ingeniería Industrial es
dc.publisher.country Perú es


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